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适用于铜制程的半导体装置制造方法及图纸
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下载适用于铜制程的半导体装置的技术资料
文档序号:8079658
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一种适用于铜制程的半导体装置,包含本体及至少一组电极结构,本体以氮化镓系半导体为主要材料构成,电极结构与外部电路电连接并包括形成于本体上且与本体欧姆接触的欧姆接触层、形成于欧姆接触层上的抑制层及形成于抑制层上且以铜为主成份的导线层,构成欧姆...
该专利属于财团法人交大思源基金会所有,仅供学习研究参考,未经过财团法人交大思源基金会授权不得商用。
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