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本发明涉及肿瘤药物，提供了一种如下式所示的硫化天冬氨酸修饰的退黑素衍生物及其应用，其中，基团R1选自H、C1-C4烷基、C2-C4烯基；基团R2选自氢或卤素；基团R3选自C1-C4烷基、C2-C4烯基或所述衍生物可以用于接受化学治疗和放射治...
该专利属于冉瑞琼所有，仅供学习研究参考，未经过冉瑞琼授权不得商用。

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