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本实用新型涉及光纤用高纯四氯化硅产品检测系统，特别是光纤用高纯四氯化硅产品含氢杂质检测系统，其不同之处为：其包括取样盘、RT-IR分析仪、固定在RT-IR分析仪上的样品分析检测池，样品分析检测池包括池身、位于池身两端的压紧密封盖，压紧密封盖...
该专利属于武汉新硅科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉新硅科技有限公司授权不得商用。

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