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本发明涉及制备基于P型和N型的有机半导体化合物CP和CN的涂层的方法，在制得的涂层中化合物CN与化合物Cp不可混溶，其中：(A)将溶液沉积在所述支持体的全部或部分表面上，该溶液包含在溶剂介质S中的化合物CP和CN，所述溶剂介质S能够溶剂化化...
该专利属于罗迪亚运营公司所有，仅供学习研究参考，未经过罗迪亚运营公司授权不得商用。

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