温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。
本发明涉及一种可抑制颗粒沉积的硅晶片精抛光组合液及其制备方法，属于化学机械抛光（CMP）领域，特别涉及一种可抑制颗粒沉积的硅晶片精抛光组合液。本发明包括胶体二氧化硅/水溶性聚合物复合磨粒、含羟基和/或胺基的表面保护剂、碱性化合物、表面活性剂...该专利属于深圳市力合材料有限公司;深圳清华大学研究院;清华大学所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市力合材料有限公司;深圳清华大学研究院;清华大学授权不得商用。