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离子溅射仪溅射靶制造技术
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文档序号:7924445
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本实用新型公开的离子溅射仪溅射靶,包括上盖板,所述上盖板上侧设有接线柱,其中,所述上盖板下侧设置靶头,所述靶头为圆形,所述靶头直径为50mm~60mm,所述靶头外表面设有溅射层,所述溅射层涂有溅射材料;所述靶头外侧设有压盖;所述上盖板和靶头...
该专利属于南京南大仪器厂所有,仅供学习研究参考,未经过南京南大仪器厂授权不得商用。
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