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本实用新型涉及的是一种集束射流清洗装置。该装置由中心轴、叶片、电子发射器组成，叶片为三组，电子发射器置于中心轴的空腔内；三组叶片中，一组叶片为开有斜孔的伞形叶片，伞形叶片中心有通孔贯穿中心轴与中心轴固定；另外两组为楔形叶片，每组楔形叶片由至...
该专利属于王德庆所有，仅供学习研究参考，未经过王德庆授权不得商用。

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