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本发明公开了用于将阵列基底和流体相接触的装置以及用于清洗阵列基底的新方法。在一种实施方式中，所述装置包括界定出清洗腔的室体、与清洗腔流体连通的流体入口、与清洗腔流体连通的排空口、适于引导气流到阵列基底表面上方的气体入口以及与清洗腔可操作联系...
该专利属于安捷伦科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安捷伦科技有限公司授权不得商用。

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