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本发明涉及一种用于光合反应器（2）的反应罩（1），所述反应罩（1）一方面被设计成在水体上漂浮，另一方面在所述罩（1）的第一开口（11）和第二开口（12）之间限定用于气体/液体培养介质的双相流路。所述罩（1）分别包括外覆层（3）和内覆层（4）...
该专利属于米克罗皮公司所有，仅供学习研究参考，未经过米克罗皮公司授权不得商用。

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