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公开了一种将还原剂引到排气流(16)的方法。该方法可以包括指令第一配量事件、响应于指令第一配量事件向分配装置(32)供应还原剂、从分配装置(32)分配还原剂到排气流(16)中，以及从分配装置(32)迫使还原剂朝向还原剂源(30)，其中，充足...
该专利属于卡特彼勒公司所有，仅供学习研究参考，未经过卡特彼勒公司授权不得商用。

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