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本发明公开了一种嵌段共聚物型分散剂及其光引发聚合制备方法，制备方法包括如下步骤：（1）在溶剂中，将2,2′-联二吡啶加入过渡金属卤化物反应，得到配合物溶液；（2）然后开启紫外光辐照反应，并滴加乙烯基羧酸酯或醋酸乙烯酯和光敏引发剂反应，该部分...
该专利属于上海东升新材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海东升新材料有限公司授权不得商用。

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