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一种用于粉体颗粒表面镀膜的对靶磁控溅射装置，该装置包括真空室、两端开口的滚筒、两个带限位斜面的支撑辊、电机及调速装置、两个磁控溅射靶架和溅射电源；支撑辊与调速装置相连，滚筒直接放在支撑辊上，通过支撑辊带动滚筒旋转，滚筒的两端开口处设有靶材。...
该专利属于北京有色金属研究总院所有，仅供学习研究参考，未经过北京有色金属研究总院授权不得商用。

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