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本发明提供一种用于制备蚀刻掩模图案的糊剂和使用该糊剂制备硅太阳能电池的方法。所述用于制备掩模图案的糊剂组合物用来形成硅太阳能电池的选择性发射极，包含无机粉末、有机溶剂、粘合剂树脂和增塑剂。由所述糊剂组合物制备的掩模图案具有与基板良好的粘合性...
该专利属于LG化学株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过LG化学株式会社授权不得商用。

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