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本发明公开一种含有CHF2COF而成的蚀刻气体。该蚀刻气体可以含有选自O2、O3、CO、CO2、F2、NF3、Cl2、Br2、I2、XFn(式中，X表示Cl、I或Br、n为1≤n≤7的整数)、CH4、CH3F、CH2F2、CHF3、N2、H...
该专利属于中央硝子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过中央硝子株式会社授权不得商用。

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