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本发明涉及获得目标源和目标掩模的方法和优化在掩模上的透射布置和相移特征的方法。具体地，获得目标源和目标掩模的方法，包括步骤：确定如何将照明从照明源提供到若干源点及对应于预定掩模图案的掩模：在由提供到预定掩模图案的照明形成的像的像面上选择分裂...
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