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本实用新型涉及液晶显示器(LCD)技术领域，尤其涉及一种阵列基板，用于解决一种能够改善过刻蚀和/或刻蚀不充分的问题，该阵列基板包括按设定方向依次排列的多个透明电极薄膜，每两个相邻透明电极薄膜之间具有狭缝；所述多个透明电极薄膜中的部分或全部透...
该专利属于北京京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京京东方光电科技有限公司授权不得商用。

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