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本发明提供离子注入方法和离子注入装置。该离子注入方法可以不受在基板面内形成的不均匀剂量分布的形状的限制，使作为不希望具有的剂量分布的过渡区域变小，并且可以缩短离子注入处理所需要的时间。该离子注入方法通过改变离子束(3)和基板(11)的相对位...
该专利属于日新离子机器株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过日新离子机器株式会社授权不得商用。

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