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本发明公开了一种晶体培养连续过滤自动控制方法，属于过程控制先进控制领域，适用于快速生长大尺寸KDP和DKDP晶体的培养，此方法涉及温度控制、流量联动控制、报警控制、历史数据存储与分析等方法。本发明在晶体培养过程中通过对生长溶液进行循环过滤，...
该专利属于江南大学所有，仅供学习研究参考，未经过江南大学授权不得商用。

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