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本发明涉及等离子体灰化方法，该方法包括：以一实质上无氧无氮之气体混合物形成一等离子体；将该等离子体导引入一处理室，其中该处理室包含一和等离子体流体连通之阻隔平板组件；使该等离子体流经该阻隔平板组件，并自基板移除光阻剂材料、后蚀刻残留物、和挥...
该专利属于艾克塞利斯技术公司所有，仅供学习研究参考，未经过艾克塞利斯技术公司授权不得商用。

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