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本发明提供一种基座和包括其的化学气相沉积(CVD)设备。所述基座包括：多个基座片，当结合在一起时形成盘；至少一个容器，设置在所述多个基座片中的每个的上表面上，并包括其上将沉积材料的构件，其中，连接部形成在相邻基座片的侧表面之间并允许所述多个...
该专利属于三星LED株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三星LED株式会社授权不得商用。

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