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一种光刻装置，包括一光罩，具有多种结构，该等结构系大体上沿一可预设而朝该光罩的延伸方向延伸；一装置，用于产生电磁辐射以及导引该电磁辐射至该光罩，其中该电磁辐射至少部分在该延伸方向被TM极化，使该被TM极化的电磁辐射具有一极化方向，该极化方向...
该专利属于因芬尼昂技术股份公司所有，仅供学习研究参考，未经过因芬尼昂技术股份公司授权不得商用。

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