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肖特基二极管结构制造技术
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文档序号:7508139
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一种肖特基二极管结构,包括:一半导体基层,作为阴极端;一磊晶层,为结于半导体基层之上,该磊晶层上蚀刻形成数个沟槽;至少一高浓度掺杂层,为高浓度半导体掺杂区块,结合于该沟槽的外围,使该高浓度掺杂层表面邻接该磊晶层;一介电层,结合于高浓度掺杂层...
该专利属于台湾半导体股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过台湾半导体股份有限公司授权不得商用。
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