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一种投影式斜坡曝光光刻机，依次包括具有用于限制视场大小的狭缝的照明系统，掩模，倾斜光学镜组，物镜，基底，其中，该掩模上的标记图案经过倾斜光学镜组、该物镜在基底上方形成斜坡空间像，利用该斜坡空间像对该基底进行斜坡曝光。...
该专利属于上海微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备有限公司授权不得商用。

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