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本发明公开了一种半导体激光器的侧泵模块，其用于改善泵浦均匀性，且通过机械固定件固定于激光器的底板上。该侧泵模块包括漫反射腔和泵浦源，其中，漫反射腔包括腔体、置设于腔体内的石英玻管以及置设于腔体内且位于石英玻管中的晶体棒，且在所述腔体上等间距...
该专利属于北京国科世纪激光技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京国科世纪激光技术有限公司授权不得商用。

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