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本发明属于半导体制造工艺中的硅片清洗技术领域,具体提供了一种太阳能电池硅片清洗液及使用方法。该太阳能电池硅片清洗液由硝酸、氢氟酸、过氧化氢及去离子水混合配置而成;使得清洗液中硝酸的质量百分浓度为25%~32.5%,氢氟酸的质量百分浓度为0....该专利属于湖南红太阳光电科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过湖南红太阳光电科技有限公司授权不得商用。
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本发明属于半导体制造工艺中的硅片清洗技术领域,具体提供了一种太阳能电池硅片清洗液及使用方法。该太阳能电池硅片清洗液由硝酸、氢氟酸、过氧化氢及去离子水混合配置而成;使得清洗液中硝酸的质量百分浓度为25%~32.5%,氢氟酸的质量百分浓度为0....