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本发明的目的是提供一种可以使形成的金属氧化膜维持在低电阻且进一步提高生产效率的金属氧化膜的成膜方法。本发明的金属氧化膜的成膜方法中，具备下述的各工序。首先，将含有金属元素和乙二胺(4a)的溶液(4)雾化。另一方面，加热基板(2)。然后，向通...该专利属于东芝三菱电机产业系统株式会社;国立大学法人京都大学所有，仅供学习研究参考，未经过东芝三菱电机产业系统株式会社;国立大学法人京都大学授权不得商用。