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本发明涉及倍半硅氧烷聚合物、在负型可光图案化介电配制剂中的倍半硅氧烷聚合物、使用含有倍半硅氧烷聚合物的可光图案化介电配制剂的形成构件的方法和由倍半硅氧烷聚合物制造的构件。...
该专利属于国际商业机器公司所有，仅供学习研究参考，未经过国际商业机器公司授权不得商用。

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