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本发明涉及在洁净室条件下在微环境内根据微技术的基底无微粒处理的装置。本发明的任务是提供一种基底处理装置，所述基底处理装置无摩擦地工作，因此无微粒。根据本发明设计了用于该装置的数个自由度，由此至少在x-轴、y-轴、z-轴和Φ-方向上被磁性地且...
该专利属于萨米列弗有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过萨米列弗有限公司授权不得商用。

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