专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
罗杰斯公司
>
抛光垫、其聚氨酯层及抛光硅晶片的方法技术
>技术资料下载
下载抛光垫、其聚氨酯层及抛光硅晶片的方法的技术资料
文档序号:7336481
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
描述了一种用于形成半导体晶片用抛光垫的聚氨酯层,其中所述聚氨酯层包含:发泡聚氨酯,其中所述聚氨酯泡沫具有约640至约960kg/m3的密度和多个平均直径为约20至约200微米的孔;和具有小于35mN/m临界表面能并具有3至100微米中值粒径...
该专利属于罗杰斯公司所有,仅供学习研究参考,未经过罗杰斯公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。