下载抛光垫、其聚氨酯层及抛光硅晶片的方法的技术资料

文档序号:7336481

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描述了一种用于形成半导体晶片用抛光垫的聚氨酯层,其中所述聚氨酯层包含:发泡聚氨酯,其中所述聚氨酯泡沫具有约640至约960kg/m3的密度和多个平均直径为约20至约200微米的孔;和具有小于35mN/m临界表面能并具有3至100微米中值粒径...
该专利属于罗杰斯公司所有,仅供学习研究参考,未经过罗杰斯公司授权不得商用。

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