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本发明涉及制备样品的系统和方法，该方法可以包括操纵掩模和样品，因此将样品的不同侧面暴露给离子减薄机。操纵可以包括在保持样品和掩模之间的空间关系不变的同时，旋转掩模和样品。...
该专利属于卡姆特有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过卡姆特有限公司授权不得商用。

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