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一种制备失效分析样品的方法,包括:提供样品,所述样品包括待分析结构,所述样品具有第一表面,所述第一表面暴露出待分析结构;在所述第一表面上形成第一预定厚度的重金属层;在形成第一预定厚度的重金属层后,将所述样品一分为二,选择其中之一作为待分析样...该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。
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一种制备失效分析样品的方法,包括:提供样品,所述样品包括待分析结构,所述样品具有第一表面,所述第一表面暴露出待分析结构;在所述第一表面上形成第一预定厚度的重金属层;在形成第一预定厚度的重金属层后,将所述样品一分为二,选择其中之一作为待分析样...