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本发明涉及用于压水式反应堆一次回路金属组件的具有氧化物层的表面的化学去污染方法，其被分为两个工艺阶段并进一步设计如下：在第一工艺阶段，进行至少一个处理循环，其包括一个氧化步骤、一个还原步骤和一个随后的第一去污染步骤，其中在氧化步骤中，用包含...
该专利属于阿利发NP有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过阿利发NP有限公司授权不得商用。

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