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本发明的透射电镜样品，包括：衬底，位于所述衬底上的关注区域，在所述衬底和所述关注区域上依次形成有介质层和金属层，所述介质层的衬度与所述关注区的衬度差值大于预定值。透射电镜样品的制备方法，包括：提供衬底，所述衬底上形成有关注区域；在所述关注区...
该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。

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