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本发明公开了一种用于半导体工艺的排气系统，该排气系统包括主排气通道和排气管道，该排气管道连接在机台和该主排气通道之间，该排气系统还包括喷淋系统，该喷淋系统用于对该排气管道的内部进行清洗。本发明还公开了一种清洗该排气系统的方法，包括步骤：判断...
该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。

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