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本发明提供一种真空蒸镀装置，可在被蒸镀体上形成均匀、高反射率且无缺陷的金属蒸镀膜。在真空室内配置蒸镀源与被蒸镀体，使由蒸镀源气化的物质到达被蒸镀体的表面而蒸镀的真空蒸镀装置，其特征在于，使从放入有该蒸镀源的坩埚的开口部气化的物质在金属圆锥筒...
该专利属于三菱伸铜株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三菱伸铜株式会社授权不得商用。

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