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使用非矩形沟道来提升晶体管的性能制造技术
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下载使用非矩形沟道来提升晶体管的性能的技术资料
文档序号:7211194
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本发明包括与用于集成电路的布图和投影式掩膜,其中,晶体管的扩散形状包括在横向相对的一个或者两个边上的横向延伸的凹陷,该凹陷具有内拐角和外拐角,这两个拐角中的至少一个在纵向上相对于栅极导体定位成使得在将扩散形状光刻印刷到集成电路上期间,拐角将...
该专利属于新思科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过新思科技有限公司授权不得商用。
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