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薄膜形成装置及薄膜形成方法制造方法及图纸
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文档序号:7191012
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在使用气体冷却的成膜方法中,一边实现充分的冷却效果一边避免因气体导入导致成膜率下降和/或对真空泵施加过大的载荷。本发明的薄膜形成装置,具备:在薄膜形成区域(9)具有与基板(7)的背面接近的冷却面(10s)的冷却体(10);以及向冷却面(10...
该专利属于松下电器产业株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过松下电器产业株式会社授权不得商用。
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