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一种用于填充孔尺寸为30纳米或更小的亚微米尺寸结构的组合物，其包含铜离子源和至少一种选自式I化合物的抑制剂；其中-基团R1各自独立地选自氧化乙烯与至少一种其他C3-C4氧化烯的共聚物，所述共聚物为无规共聚物，-基团R2各自独立地选自R1或烷...
该专利属于巴斯夫欧洲公司所有，仅供学习研究参考，未经过巴斯夫欧洲公司授权不得商用。

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