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本实用新型涉及一种均匀清洗装置，包括槽体，所述槽体的下端设置有超声波发生器，所述槽体的侧壁上端分别设置有挡板，所述挡板的边缘设置有梯形凸起，所述相邻梯形凸起之间为凹面梯形齿，所述挡板上的凹面梯形齿设置在同一个平面上，所述相邻梯形凸起、相邻凹...
该专利属于苏州五方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州五方光电科技有限公司授权不得商用。

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