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本发明提供形成基质的持续释放药物制剂，其包括以下四种主要成分：ｉ）有效量的至少一种药物物质；ｉｉ）至少一种药学上可接受的、水溶胀的、非ｐＨ依赖性聚合物；ｉｉｉ）至少一种药学上可接受的、阴离子的、ｐＨ依赖性聚合物；和（ｉｖ）选自ａ）至少一种药...
该专利属于ＡＡＩ医药服务公司所有，仅供学习研究参考，未经过ＡＡＩ医药服务公司授权不得商用。

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