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提供通过等离子体浸没离子注入处理而注入离子到基板中的方法。在一实施例中，一种注入离子到基板中的方法包含：提供基板至处理腔室中，所述基板包括具有一或多个形成在其中的特征结构的基板表面，且每一特征结构具有一或多个水平表面和一或多个垂直表面；从含...
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