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本发明公开用于光刻胶组合物中的聚合物，其包括具有下式的重复单元，其中Ｚ表示聚合物主链的重复单元；Ｘ为选自由以下组成的组的连接基团：亚烷基、亚芳基、亚芳烷基、羰基、羧基、羧基亚烷基、氧基、氧亚烷基及其组合；且Ｒ选自由以下组成的组：氢、烷基、芳...
该专利属于国际商业机器公司所有，仅供学习研究参考，未经过国际商业机器公司授权不得商用。

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