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本发明提供了与以往的方法相比，能够在稳定的条件下、收率良好地或者更廉价地制备含有四氰基硼酸盐的离子性化合物的制备方法；以及杂质含量降低的含有四氰基硼酸盐的离子性化合物。本发明的离子性化合物，相对于１００ｍｏｌ％的用下述通式（Ｉ）表示的离子性...
该专利属于株式会社日本触媒所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社日本触媒授权不得商用。

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