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有序中孔氧化硅材料制造技术
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文档序号:7136591
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本发明利用两亲性嵌段共聚物和任选的四烷基铵化合物,在温和的酸性或中性pH条件下,合成了一类新型有序中孔氧化硅材料,记作COK-10。这些中孔的孔径基本均一,在4-30纳米范围内,可通过调适合成条件进行精调。本发明还利用两亲性嵌段共聚物和pH...
该专利属于佛麦克制药股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过佛麦克制药股份有限公司授权不得商用。
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