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本发明关于一种化学机械平面化垫体（ｃｈｅｍｉｃａｌ　ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ　ｐｌａｎａｒｉｚａｔｉｏｎ　ｐａｄ）以及一种制造及使用一化学机械平面化垫体的方法。该化学机械平面化垫体可包含一第一组成部分，该第一组成部分包含一水溶性成分（ｗａｔｅｒ...
该专利属于音诺帕德股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过音诺帕德股份有限公司授权不得商用。

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