温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种等离子体共聚合制备高性能阴离子交换膜的方法，利用等离子体放电把气体、气态功能性单体等离子体化，产生各类活性物种，活性物种之间或活性物种与单体之间进行加成、聚合、季铵化反应，沉积形成阴离子交换膜。本发明可将阴离子交换膜直接沉积...
该专利属于中国科学院等离子体物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院等离子体物理研究所授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。