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本发明涉及一种反应器内部，其包括一个基本上水平的下支承格栅，和选自一个分布盘和用于分布一急冷流体的装置的至少一个分布装置，该分布装置位于下支承格栅的上方，并且通过垂直延伸的支腿与下支承格栅相连并且与下支承格栅分隔开。本发明还涉及一种反应器内...
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