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本实用新型揭示了一种反应离子刻蚀设备，包括一接地的真空室，所述真空室内的底部设有一自下而上的基片架；所述基片架即为电极，所述基片架和一电源之间连接导通，所述基片架上均匀划分为至少两层的工作区域；所述各工作区域的下部为水平架设在所述基片架上的...
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