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一种基板保持装置，保持通过液体曝光用光所照射的处理基板，具备：基材；第1保持部，形成于该基材，用以保持该处理基板；以及第2保持部，形成于该基材，用以将板体保持于该第1保持部所保持的处理基板附近；保持于该第2保持部的板体，具有：第1面，与该处...
该专利属于尼康股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过尼康股份有限公司授权不得商用。

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