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氢氧焰等离子体提纯冶金级多晶硅粉体的方法技术
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文档序号:6936246
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本发明涉及一种氢氧焰等离子体提纯冶金级多晶硅粉体的方法,该方法包括以下步骤:(1)将冶金级硅粉进行超声清洗后,室温下晾干,得到预处理硅粉;(2)将预处理硅粉放入氢氧焰等离子体提纯装置内的送料槽中;(3)打开所述氢氧焰等离子体提纯装置内的氢氧...
该专利属于兰州大学所有,仅供学习研究参考,未经过兰州大学授权不得商用。
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